核心技术 / 二级主题 · Metering and Exposure Strategy
测光与曝光策略
把测光模式、曝光补偿与拍摄意图组合成可重复的曝光决策，而不是追求测光表归零。
主题概览
- 关键内容
- 反射式测光、点测光落点、灰阶定位、直方图与波形、包围曝光
- 学习重点
- 根据最终介质和主体反差决定亮度落点，并建立不同场景下的曝光基准。
- 实践方式
- 选择高反差、低反差与逆光三类场景，分别记录测光落点、补偿量和后期余量。
- 常见问题
- 把相机测光值当成正确曝光；忽略主体反射率与最终影调意图。
三级知识节点
5 个子级节点；其中的类别还可以继续进入具体条目。
- 反射率偏差与测光落点Reflectance Bias and Metering Placement原理
反射式测光把不同反射率的对象推向中间调，因此测光落点必须结合对象反射率解释。
- 直方图、波形与斑马线联合判断Histogram, Waveform and Zebras方法
直方图显示分布，波形保留空间位置，斑马线提供现场阈值提示，三者承担不同判断。
- 包围曝光的步长与合成边界Bracketing Step and Merge Limits方法
多帧包围可覆盖超出单帧容量的场景，但受运动、光源变化和合成伪影限制。
- 入射测光与反射测光Incident vs Reflected Metering原理
入射测光测到达主体的光量，反射测光受物体反射率影响；两者回答的问题不同。
- 手动曝光与曝光补偿Manual Exposure and Exposure Compensation方法
光线稳定时手动曝光保持系列一致；自动模式下用曝光补偿修正测光偏差。